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選型指南

隨著 2025 年國(guó)家自然科學(xué)基金原創(chuàng)探索計(jì)劃項(xiàng)目申請(qǐng)指南的發(fā)布，科研界再次迎來(lái)了一波新的機(jī)遇與挑戰(zhàn)！面對(duì)這些機(jī)遇，除了創(chuàng)新的學(xué)術(shù)思想，選擇合適的工具更您助您掌握通向成功的鑰匙。

? 復(fù)納科技六大明星產(chǎn)品：

• 飛納臺(tái)式掃描電鏡

• Technoorg Linda 制樣設(shè)備離子研磨儀

• NEOSCAN 高分辨臺(tái)式顯微CT

• DENSsolutions 原位透射樣品桿

• Forge Nano 粉末原子層沉積系統(tǒng)

• VSParticle 納米氣溶膠沉積系統(tǒng)

這些儀器在 2024 年創(chuàng)造了多個(gè)里程碑時(shí)刻，為科研和工業(yè)研發(fā)提供了高效、精確的微觀表征與分析工具，幫助您更加深入地探索材料微觀世界的奧秘，加速科學(xué)發(fā)現(xiàn)和技術(shù)創(chuàng)新的步伐。

如何在 2025 年的科研征程中搶占先機(jī)呢？復(fù)納科技的六大儀器產(chǎn)品或許能為您提供答案。我們特別推出了產(chǎn)品選型指南，幫助您深入了解這些儀器產(chǎn)品如何助力科研人員實(shí)現(xiàn)從無(wú)到有的原創(chuàng)成果，為科研之旅保駕護(hù)航。

PHENOM 飛納臺(tái)式掃描電鏡

在當(dāng)今科學(xué)研究和工業(yè)應(yīng)用中，掃描電鏡顯微鏡與能譜儀已成為材料實(shí)驗(yàn)室表征工具。荷蘭飛納臺(tái)式掃描電鏡（Phenom）以其前沿技術(shù)和用戶(hù)友好的設(shè)計(jì)，被 2000+ 用戶(hù)認(rèn)可，研究領(lǐng)域涉及金屬及合金、電池、地質(zhì)、考古、高分子、靜電紡絲、陶瓷、復(fù)合材料、生物醫(yī)學(xué)和微生物等，成為科研和工業(yè)研發(fā)高效、精確材料微觀表征與分析的選擇。

飛納電鏡產(chǎn)品線有：臺(tái)式肖特基熱場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡、CeB6 燈絲 XL 系列智能化臺(tái)式掃描電鏡、CeB6 燈絲 P系列高性?xún)r(jià)比臺(tái)式掃描電鏡，ParticleX 系列全自動(dòng)顆粒和異物檢測(cè)掃描電鏡，DiatomAI 全自動(dòng)硅藻檢測(cè)系統(tǒng)（電鏡法）。

飛納臺(tái)式掃描電鏡

• 相較傳統(tǒng)電鏡，成像速度提升 10 倍：15s 抽真空，30s 成像

• 采用超長(zhǎng)壽命的 CeB6 燈絲，平均 3 年以上更換燈絲

• 不挑安裝環(huán)境，防震防磁，放置高樓層也無(wú)需擔(dān)心

• 原廠集成能譜 EDS，一分鐘給出 SEM 和元素分析 2 個(gè)結(jié)果

• 讓精密儀器無(wú)后顧之憂，全球 5000+ 用戶(hù)選擇

• 最“老"的電鏡，也是最“新"的電鏡!

• 自動(dòng)化掃描電鏡，讓測(cè)試效率翻倍

• 高效穩(wěn)定的臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡

Phenom 飛納電鏡型號(hào)推薦

2024年，飛納電鏡還推出一系列新技術(shù)--ChemiSEM 彩色成像軟件，ChemiPhase 物相分析軟件、Phenom MAPS 大面積能譜拼圖軟件等新技術(shù)，不僅打破大家對(duì)于掃描電鏡圖片是黑白的傳統(tǒng)認(rèn)知，而且將掃描電鏡成像分析帶入一個(gè)全新的高度。此外，Phenom AFM-SEM 原子力掃描電鏡一體機(jī)，可以實(shí)現(xiàn)在同一系統(tǒng)中對(duì)樣品進(jìn)行多模態(tài)（SEM 及 AFM 形貌、元素、機(jī)械、電學(xué)、磁學(xué)）的關(guān)聯(lián)分析。

2025 年，為您的材料實(shí)驗(yàn)室增購(gòu)飛納臺(tái)式掃描電鏡，揭開(kāi)材料微觀世界的奧秘，加速科學(xué)發(fā)現(xiàn)和技術(shù)創(chuàng)新的步伐。

Technoorg Linda  離子束制樣設(shè)備

Technoorg Linda 提供專(zhuān)業(yè)的樣品制備解決方案。 產(chǎn)品通過(guò)全球的超高能氬離子槍和低能氬離子槍?zhuān)瑢?duì)樣品進(jìn)行無(wú)損研磨，精細(xì)加工以及最終精修。具體包括SEM樣品制備（SEMPrep SMART）、FIB離子精修（Gentle Mill）、TEM 樣品制備離子減薄儀（Unimill）以及 GIB 精修離子束系統(tǒng)等產(chǎn)品。Technoorg Linda 榮獲 2024 年 Red Dot Concept Award（紅點(diǎn)獎(jiǎng)）工業(yè)設(shè)備類(lèi)別獎(jiǎng)項(xiàng)。這些產(chǎn)品與所有品牌的電子顯微鏡兼容，涵蓋從機(jī)械樣品制備到離子研磨和最終精修的整個(gè)減薄過(guò)程。適用于材料科學(xué)、生物研究、地質(zhì)學(xué)、半導(dǎo)體和光學(xué)等多個(gè)領(lǐng)域。

型號(hào)推薦——Technoorg Linda 離子束制樣設(shè)備

SMART 離子研磨儀

用于SEM/EBSD樣品制備

• 樣品表面拋光/截面切削

• 氬離子束無(wú)應(yīng)力處理樣品

• 定位精準(zhǔn)：可實(shí)現(xiàn) ± 1微米

• 離子槍能量最高：0-16 KV

• 超大樣品腔室：容納直徑50mm樣品

• 制冷設(shè)計(jì)：液氮 LN2 制冷

• 可選配真空轉(zhuǎn)移功能

Gentle Mill 離子精修儀

用于FIB樣品處理

Gentle Mill 離子精修儀產(chǎn)品采用氬離子束，專(zhuān)為最終拋光、精修和改善 FIB 處理后的樣品而設(shè)計(jì)。Gentle Mill 型號(hào)非常適合要求樣品無(wú)加工痕跡、表面幾乎沒(méi)有任何損壞的 XTEM、HRTEM 或 STEM 的用戶(hù)。其配備了設(shè)計(jì)的低能氬離子槍?zhuān)x子束能量可低達(dá) 100eV，可把非晶層厚度精修到 1nm 以下，獲得樣品的真實(shí)信息。

UniMill 離子減薄儀

用于 TEM/XTEM 樣品制備

Unimill 離子減薄儀專(zhuān)為快速地制備具備高減薄率的、高質(zhì)量的 TEM / XTEM 樣品而設(shè)計(jì)。 即可以使用全球的超高能離子槍進(jìn)行快速研磨，也可以使用專(zhuān)用的低能離子槍進(jìn)行最終拋光和精修處理。

GIB 精修離子束系統(tǒng)

可集成于FIB內(nèi)進(jìn)行樣品處理

精修離子束系統(tǒng)（GIB）適用于表面減薄、其他表面處理后的后處理、清潔以及去除無(wú)定形和氧化物表面層。當(dāng)?shù)湍軞咫x子槍集成到掃描電鏡中時(shí)，其作用尤為明顯。有了集成離子槍?zhuān)涂梢栽谘芯恐皩?duì)樣品進(jìn)行精修。實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量樣品的另一個(gè)重要應(yīng)用是在雙束 SEM / FIB 系統(tǒng)中進(jìn)行 FIB 樣品制備后，對(duì) TEM 樣品進(jìn)行最終拋光和溫和的表面清潔。 

Neoscan  X射線顯微CT

NEOSCAN 臺(tái)式顯微 CT 采用先進(jìn)的 X 射線成像技術(shù)，結(jié)合精密的機(jī)械系統(tǒng)和圖像重建算法，能夠非破壞性地獲取樣品的內(nèi)部結(jié)構(gòu)信息。最小體素尺寸可達(dá) 40nm，用臺(tái)式技術(shù)重新定義納米CT！還可選配集成 XRF 系統(tǒng)，輕松進(jìn)行化學(xué)成分分析，鉀（K）以上元素可分辨！在骨科、生物、農(nóng)業(yè)、3D打印、制藥、考古、材料科學(xué)等行業(yè)都有著廣泛應(yīng)用！相較于傳統(tǒng)的大型 CT 設(shè)備，Neoscan 臺(tái)式顯微 CT 更加緊湊便攜，適用于實(shí)驗(yàn)室和研究機(jī)構(gòu)的日常使用。這種新穎的技術(shù)和表征手段在科研和工業(yè)界中獨(dú)樹(shù)一幟，為您尋求突破傳統(tǒng)研究方法限制開(kāi)辟了新的視野。

Neoscan 顯微CT 

• 開(kāi)創(chuàng)性高分辨顯微CT，重新定義臺(tái)式技術(shù)！

• 最小體素尺寸可達(dá) 40nm

• 集成 XRF系統(tǒng)，可進(jìn)行化學(xué)成分分析

• 鉀（K）以上元素可分辨

• 樣品尺寸可達(dá) 100mm* 400 mm

DENSsolutions TEM 原位實(shí)驗(yàn)樣品桿

傳統(tǒng)透射電子顯微鏡 (TEM) 主要用于成像材料結(jié)構(gòu)，近年來(lái)球差等先進(jìn)技術(shù)使其達(dá)到原子分辨率。然而，它們無(wú)法模擬真實(shí)環(huán)境（加熱、氣體、液體等），限制了應(yīng)用價(jià)值。DENSsolutions 的原位透射電鏡技術(shù)突破了這一瓶頸！利用微機(jī)電系統(tǒng) (MEMS) 技術(shù)，可以為原位 TEM 樣品施加外界刺激，捕捉 TEM 樣品在真實(shí)環(huán)境下的動(dòng)態(tài)現(xiàn)象。

目前，DENSsolutions 已經(jīng)可以在 TEM 中引入氣、液、熱、電、冷凍等多種狀態(tài)，提供 Wildfire TEM 原位加熱樣品桿、Lightning TEM 原位熱電樣品桿、Climate Infinity TEM 原位氣相加熱加電樣品桿以及 Stream Infinity TEM 原位液相加熱加電樣品桿以及 Lightning Arctic 原位冷凍熱電樣品桿，為材料科學(xué)研究提供了強(qiáng)大的工具，推動(dòng)了納米材料、催化劑和納米電子器件等領(lǐng)域的進(jìn)步和創(chuàng)新。

DENSsolutions，將電鏡從靜態(tài)成像工具變身為多功能實(shí)驗(yàn)室，助力納米科技前沿！

ForgeNano  粉末原子層沉積系統(tǒng)

Forge Nano 是粉末原子層沉積方案供應(yīng)商，利用其平臺(tái)技術(shù)，可以在高比表面積的粉末顆粒表面構(gòu)筑超薄的納米涂層或活性組分，開(kāi)發(fā)多種涂層工藝。同時(shí)，Forge Nano 是全球少數(shù)可將粉體ALD技術(shù)進(jìn)行工業(yè)化放大的企業(yè)（千噸級(jí)粉末處理能力）。我們誠(chéng)摯地邀請(qǐng)廣大科研工作者，利用新型 ALD 平臺(tái)開(kāi)發(fā)可放大的粉體涂層工藝，為新能源、催化、粉末冶金以及制藥等研究方向帶來(lái)更多無(wú)限可能。

Forge Nano 粉末ALD系統(tǒng)

• 20年粉末ALD技術(shù)沉淀，專(zhuān)注粉末工程，行業(yè)前沿

• 集成式在線質(zhì)譜實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)，涂層生長(zhǎng)全程可視化，確保工藝精度

• 從毫克實(shí)驗(yàn)到千噸量產(chǎn)，F(xiàn)orge Nano ALD一站式解決

• 流化床創(chuàng)新設(shè)計(jì)，提升氣體傳輸效率，避免粉末團(tuán)聚

• 旋轉(zhuǎn)床+可視化監(jiān)測(cè)，無(wú)需過(guò)濾芯設(shè)計(jì)更高效

• 支持代包覆合作方案

型號(hào)推薦

Forge Nano 粉末原子層沉積系統(tǒng)

PROMETHEUS 流化床ALD系統(tǒng)

利用 Prometheus 流化床原子層沉積系統(tǒng)可開(kāi)發(fā)探索復(fù)雜的高比表面積粉末涂層，實(shí)現(xiàn)克級(jí)到公斤級(jí)粉末材料的界面涂層生長(zhǎng)。批次處理能力提升至企業(yè)驗(yàn)證需求的水平，可加快成果轉(zhuǎn)化速度。適合兼顧科學(xué)研究以及成果轉(zhuǎn)化的工藝開(kāi)發(fā)需求，實(shí)現(xiàn)與企業(yè)小試要求的無(wú)縫銜接。

PANDORA 多功能ALD系統(tǒng)

Pandora 多功能原子層沉積系統(tǒng)使用操作簡(jiǎn)單，兼容性強(qiáng)，適合在前期快速開(kāi)展粉末包覆和平面樣品薄膜沉積的研究。同時(shí)，該系統(tǒng)能真正做到兼顧多種不同樣品的需求，可處理各種復(fù)雜樣品并做到 ALD 包覆。 

VSParticle  納米研究平臺(tái)

納米制造技術(shù)作為納米科技應(yīng)用的基石，對(duì)于實(shí)現(xiàn)科研成果的產(chǎn)業(yè)化具有舉足輕重的作用。新型的納米制造實(shí)驗(yàn)設(shè)備可促進(jìn)科學(xué)成果從 0 到 1 的突破以及成果的商業(yè)化轉(zhuǎn)化，是科研設(shè)備更新的重要方向。在納米科技的前沿領(lǐng)域，荷蘭 VSParticle 公司以其革命性的火花燒蝕納米氣溶膠沉積技術(shù)，為研究者和產(chǎn)業(yè)界帶來(lái)了一系列創(chuàng)新的納米顆粒制備和印刷沉積設(shè)備。

VSParticle 將先進(jìn)的納米多孔層打印技術(shù)與多倫多大學(xué)的測(cè)試平臺(tái)和 Meta AI 的模型結(jié)合在一起，在短短幾個(gè)月內(nèi)，就從不同的元素組合中合成了 525 種材料，以發(fā)現(xiàn)應(yīng)對(duì)氣候變化的電催化材料，建立了最大的開(kāi)源實(shí)驗(yàn)催化劑數(shù)據(jù)庫(kù)。目前 VSParticle 納米沉積系統(tǒng)在浙江大學(xué)，東南大學(xué)，北京工業(yè)大學(xué)，中科院物理所，中南大學(xué)，廣東工業(yè)大學(xué)等學(xué)術(shù)機(jī)構(gòu)和企業(yè)均已裝機(jī)。火花燒蝕沉積技術(shù)已被眾多學(xué)者證明，在Nature，Matter, Advanced Functional Materials 等高水平期刊發(fā)表相關(guān)文章，是新型納米制造的利器。（推薦閱讀：Nature 大子刊、AM 都在用!氣溶膠沉積助力科研“彎道超車(chē)"）

型號(hào)推薦

VSParticle 納米氣溶膠沉積系統(tǒng)

VSP-P1 納米印刷沉積系統(tǒng)

VSP-P1 納米印刷沉積系統(tǒng)是 VSParticle 產(chǎn)品線中的設(shè)備，專(zhuān)為材料開(kāi)發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)測(cè)試而設(shè)計(jì)。利用火花燒蝕材料的沖壓沉積技術(shù)，能夠?qū)崿F(xiàn)從稀疏團(tuán)聚體到厚達(dá)幾微米的連續(xù)層的不同層厚度印刷沉積。它的圖案化打印功能使得研究人員能夠在非半導(dǎo)體類(lèi)的納米薄膜應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)精細(xì)的厚度控制。VSP-P1 在高效催化劑涂層膜的開(kāi)發(fā)、電催化劑篩選和氣體傳感器研究中展現(xiàn)了其性能和靈活性。

VSP-G1 納米粒子發(fā)生器

VSP-G1 納米粒子發(fā)生器是一臺(tái)桌面式儀器，可生成尺寸范圍為 1 – 20 nm 的純金屬、金屬氧化物、碳、半導(dǎo)體、合金納米氣溶膠材料。納米顆粒的生產(chǎn)采用純物理火花燒蝕技術(shù)制備，在氣相中進(jìn)行，無(wú)需真空，無(wú)需使用表面活性劑或前驅(qū)體。用于納米粒子生產(chǎn)的源材料僅需材料制成所需的兩根靶材（電極），使用時(shí)只需安裝電極并設(shè)置參數(shù)，按下按鈕即可開(kāi)始生成納米顆粒。

VSP-S1 納米粒徑篩選沉積系統(tǒng)

VSP-S1 是 VSP-G1 的理想伴侶，它是一款用戶(hù)友好的納米粒子尺寸選擇器，能夠輕松篩選出 1-10nm 范圍內(nèi)的單一尺寸顆粒。VSP-S1 納米粒徑篩選沉積系統(tǒng)提供 0.1nm 分辨率的精準(zhǔn)控制；適用于原位 TEM 研究和尺寸依賴(lài)的效應(yīng)研究；具備實(shí)時(shí)跟蹤功能，確保樣品一致性和可靠性。